极紫外光刻掩模上三维图案的严格模拟(下)

1D线掩模:全3D计算域

首先,使用包含吸收体结构和多层反射镜的3D计算域重新审视EUV线掩模。图5显示了对几何体进行离散化的网格(使用网格生成器JCMgeo自动生成)。对于三维设置,网格由棱柱形元素组成(而不是二维设置中的三角形元素)。使用不同的空间网格对相同的物理设置进行了模拟,网格分辨率增加,使用具有不同多项式次数p的有限元转换函数(通常,增加p和增加网格分辨率都会导致更高的精度)。表4给出了几个衍射级强度、反射功率和功率守恒的数值结果。

表4. EUV线掩模的3D模拟的模拟结果。最后一行数据给出了二维计算域(参考解)的模拟结果,以供比较。

 

 图5。从左到右:对线掩模的3D计算域进行网格离散化。零阶、第一阶、第二阶和第五阶衍射强度的相对误差

 ,功率守恒的相对误差∆P(参见表4)。

从结果可以看出,所有研究量都达到了精度的前三个有效数字。考虑到10000立方波长量级的大计算域,这是一个值得注意的结果,可以用高阶有限元的良好收敛特性来解释。

图5显示了衍射强度的相对误差如何与问题的未知数数量收敛,以及功率守恒误差如何收敛到零。

1D线掩模:3D域分解结果

演示了使用3D计算域和域分解算法对线掩模进行模拟。图6显示了对几何体进行离散化的典型网格。

数值结果如表5所示。图6(中心)显示了衍射强度的(绝对)误差

 的收敛性(对于入射光场的振幅AS/P=1)。精度在

 。达到

 。对于总反射功率的相对精度,在最高数值分辨率下达到

 以下的精度。从表中可以看出,达到了很高的数值精度(即使在低功率微分阶中,也能达到三到四个有效数字的一致性)。

EUV掩模上二维周期图案的模拟

前面已经表明JCMsuite的3D光散射求解器模块生成的数值结果,很好地收敛到使用2D光散射模块获得的准精确结果(已与独立的严格方法和实现进行了比较和基准测试7-9)。分析了一个不能简化为二维计算域的三维设置:图7显示了所研究的设置。设置的所有参数详见表1。表6显示了不同约束水平网格上的模拟结果和多项式次数p=3…5的有限元分析函数的模拟结果。对于这种设置,由于吸收器块的3D特性,也会发生平面外散射,因此表格中还包括一些示例性的平面外衍射阶数(例如,衍射阶数

 ,x和y方向的一阶衍射)。从表列结果和图7所示的计算微分阶数值误差的收敛性可以看出,达到了很高的数值精度。这里作为收敛图的准精确结果,选择了最高数值分辨率的有限元模拟结果。即使是相对较弱的衍射级(强度比最强烈的零衍射级低五个数量级),强度的前三到四位数也能被精确计算出来。

表5. 使用严格的分解方法对EUV线掩模进行3D模拟的模拟结果。最后一行数据给出了二维计算域(参考解)的模拟结果,以供比较。

 表6. 多层反射镜上二维周期性吸收体图案的三维模拟结果。

 

图6。从左到右:对线掩模的3D计算域进行网格离散化(域分解方法减少了计算域)。零阶、第一阶、第二阶和第五阶衍射强度的绝对误差

 ,反射功率的相对误差

 (参见表5)。

 

图6。从左到右:对线掩模的3D计算域进行网格离散化(域分解方法减少了计算域)。零阶、第一阶、第二阶和第五阶衍射强度的绝对误差

 ,反射功率的相对误差

 (参见表5)。

 图7。左:EUV多层反射镜上二维周期性图案(晶胞)的三维计算域网格离散化(俯视图、侧视图和三维视图)。右:几个衍射级强度的相对误差

 ,反射功率的相对误差

 (参见表6)。

结论

对EUV掩模上二维周期性图案的光散射进行了严格的模拟。衍射光谱的模拟强度可以达到很高的精度。这为使用FEM模拟进行图案重建对EUV掩模上的3D图案进行散射测量开辟了前景。未来的工作将涉及应用简化基础方法10,以显著减少该模拟任务的计算时间。这将为EUV掩模上3D图案的在线重建开辟前景。

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